La capacité de réduire les dimensions de la fonctionnalité de transistors à base de silicium a permis à l'industrie des semi-conducteurs améliorer les performances, augmenter la vitesse et réduisent le prix des circuits intégrés depuis 55 ans. Dans les années 1960, Gordon Moore a prédit que la densité de transistor pour un circuit intégré doublerait tous les 18 mois (Loi de Moore). Jusqu'ici, l'industrie des semi-conducteurs a été en mesure de suivre la Loi de Moore en améliorant les attributs résolution des outils de photolithographie. A photolithographie outil est un système optique qui projette l'image d'un masque (représentant une couche d'un circuit intégré) sur une plaquette qui a été recouvert d'un matériau photosensible (résister). Après l'exposition, la résistance est mis au point pour faire apparaître un motif qui est transféré à la surface de la plaquette au moyen de techniques de gravure. Semiconductor analystes ont formulé l'hypothèse que de 2010 outils de photolithographie équipés de sources lumineuses 157 nm seront approchera à leur limite de résolution théorique (120 nm).